[发明专利]纳米材料的高分辨成像装置及其成像分析方法有效
| 申请号： | 202110074287.2 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN113376225B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 刘贤伟;吴刚;钱晨 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01N27/26 | 分类号： | G01N27/26;G01N21/49 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种纳米材料的高分辨成像装置，其包括纳米电化学控制模块、高分辨电化学成像模块和控制模块；其中所述纳米电化学控制模块包括电化学工作站和电化学池，所述电化学池包括工作电极和三电极装置；本申请还提供了利用上述高分辨成像装置分析单颗粒水平纳米材料的方法。本发明中利用高分辨表面等离子体相干散射成像装置对纳米材料在单粒子水平反应过程中不同位点进行成像和分析；该装置具有灵敏度高、非侵入性等优点，能够对不同种类纳米材料的化学活性及电化学活性进行原位成像分析，为高通量筛选提供了重要的保证。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 材料 分辨 成像 装置 及其 分析 方法 | ||
【主权项】：
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