[发明专利]基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置在审
| 申请号： | 202110063571.X | 申请日： | 2021-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN112884645A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 齐娜;王晨;朱青 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G06T3/40 | 分类号： | G06T3/40 |
| 代理公司： | 北京市中闻律师事务所 11388 | 代理人： | 冯梦洪 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 基于张量稀疏约束的光场填充方法及装置，避免向量化、引入超分辨率重建技术使光场内部的相关特性被最大程度地利用，得到客观表现良好的填充光场，给用户更好的视觉体验。方法包括：(I)对丢失部分信息的光场进行滑窗采样、搜索相似块并堆叠，利用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充得到的五维张量，再将其中的图像块分别置回光场原始索引处，得到填充的光场；(II)对(I)中得到的光场、与对前者进行超分辨率重建得到的高分辨率光场都进行滑窗采样；将后者得到的图像块投影为前者相同大小的块，相似度排序得到由两者组成的五维张量，对其使用基于张量稀疏约束的光场填充模型填充，将其中原始大小的图像块置回原始索引处，得到填充的光场。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 张量 稀疏 约束 填充 方法 装置 | ||
【主权项】：
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