[发明专利]光刻机、显影装置及显影方法在审
| 申请号： | 202110056672.4 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN114764218A | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 张成根;林锺吉;金在植;丁明正;贺晓彬;刘强;王桂磊;周娜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 刘广达 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种光刻机、显影装置及显影方法。该显影装置包括：旋转吸盘，用于支撑晶圆，所述晶圆的表面具有已曝光的光刻胶层；抬放单元，用于将晶圆装载至所述旋转吸盘，或者从所述旋转吸盘上卸载所述晶圆；显影单元，用于旋覆显影液至所述晶圆上以显影所述已曝光的光刻胶层；其中，所述抬放单元包括预设数量的支撑脚，所述支撑脚包括支撑杆和保护帽，所述支撑杆的至少一部分由静电阻断材料制成。本公开中更改了现有显影装置中支撑脚的材质，阻断了静电传输，带静电的晶圆和支撑脚接触时不会产生较高的电压，从而避免晶圆被高压点击造成的损伤，从而提高晶圆制造良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 显影 装置 方法 | ||
【主权项】：
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