[发明专利]直写曝光机及双面曝光方法在审
| 申请号： | 202110006710.5 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN114721227A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 蔡志国;江俊龙 | 申请（专利权）人： | 苏州微影激光技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/06 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 郭红岩 |
| 地址： | 215011 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种直写曝光机及双面曝光方法，直写曝光机包括多个打标装置、承载机台、设于承载机台上方的曝光装置和位置获取装置、以及遮光条，承载机台的上表面包括承载面以及位于承载面外且相邻的两个边缘，相邻两个边缘分别开设有第一凹槽和第二凹槽，遮光条包括嵌装于第一凹槽的第一段和嵌装于第二凹槽的第二段，遮光条开设有与多个打标装置一一对应的多个透光孔，其中部分透光孔设于第一段并沿第一方向间隔排布，其余透光孔设于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向间隔排布，多个打标装置设于遮光条的下方，且每个打标装置的出光口至少部分暴露于其所对应的透光孔中，可以降低组装误差、机台热胀冷缩对打标标记的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 双面 方法 | ||
【主权项】：
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