[发明专利]一种等离子体密度控制系统及方法在审
| 申请号： | 202110002170.3 | 申请日： | 2021-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN114724914A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 胡冬冬;张瑶瑶;刘小波;张怀东;刘海洋;李娜;郭颂;李晓磊;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/08 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艳红 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体密度控制系统及方法，包括离子源、反应腔室、挡片机构和法拉第杯组；法拉第杯组设在与屏栅正对应的反应腔室壁面上，包括法拉第杯安装架和至少N个法拉第杯；N个法拉第杯与屏栅上N组屏栅环状孔的位置相对应；挡片机构包括驱动装置控制器和至少两组挡片组件；每组挡片组件均包括若干个挡片和挡片驱动装置；若干个挡片均沿放电腔尾端周向均匀布设；每个挡片均能旋转伸入放电腔内，遮挡进入屏栅环状孔的等离子体；挡片组件间的挡片交替布设，挡片组件间的挡片形状不同。本发明能对离子源引出的离子束密度进行测量，并对等离子体密度进行实时控制，有效解决由于工艺条件改变而导致的刻蚀不均匀问题，并减小生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 密度 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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