[发明专利]变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202080092939.9 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN115004074A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 山本浩史 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/20 | 分类号： | G02B15/20;G02B13/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 变倍光学系统(ZL)由从物体侧依次在光轴上排列配置的具有正的光焦度的第1透镜组(G1)、具有负的光焦度的第2透镜组(G2)以及具有多个透镜组的后组(GR)构成，后组(GR)具备具有正的光焦度的第1对焦透镜组(GF1)以及具有负的光焦度的第2对焦透镜组(GF2)。在从广角端向远焦端进行变倍时，第1透镜组、第2透镜组以及多个透镜组中的相邻的透镜组之间的间隔变化，在从无限远向近距离进行对焦时，第1对焦透镜组和第2对焦透镜组以不同的移动轨迹向像侧移动，且该变倍光学系统(ZL)满足以下的条件式：1.10f2/fF22.00其中，f2：所述第2透镜组的焦距，fF2：所述第2对焦透镜组的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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