[发明专利]用于由具有受控冷却的物理气相沉积(PVD)来沉积铝的方法和设备在审
| 申请号： | 202080086113.1 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114787413A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 许绍杰;钟姚颖;王欣欣;正敏·C·庄 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/58;C23C14/54;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于在反应器腔室中执行物理气相沉积以在基板上形成铝材料的方法与设备，所述方法包括以下步骤：在基板的顶部上沉积第一铝层以形成具有第一晶粒尺寸和第一温度的第一铝区域；以及以足以将第一晶粒尺寸增加到第二晶粒尺寸的速率将基板顶部上的第一铝区域冷却到第二温度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 受控 冷却 物理 沉积 pvd 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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