[发明专利]光学层叠体的制造方法、粘接剂涂敷装置及光学层叠体的制造装置在审

专利信息
申请号: 202080065851.8 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN114423598A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 山崎达也;小川敏弘;植敷大地 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B32B7/023 分类号: B32B7/023;B32B7/12;B32B27/08;B32B27/18;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/38;B32B37/12;C08K5/55;C09D4/00;C09D5/00;C09D7/63;C09D163/00;C09D183/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能够抑制粘接剂的运行成本、并且不会损害光学层叠体的制造效率、能够保持光学层叠体的良好的粘接性的光学层叠体的制造方法等。本发明的光学层叠体的制造方法具备:通过粘接剂涂敷装置(100)将活性能量射线固化型粘接剂(ad)涂敷于为了制作光学层叠体(F)而贴合在一起的第一光学膜(F1)及第二光学膜(F2)中的至少一者的粘接剂涂敷工序,粘接剂涂敷装置具备:涂敷粘接剂的涂敷机(6);储存粘接剂并向涂敷机供给粘接剂的第一罐(20);以及将粘接剂密封储存、并向第一罐供给粘接剂且粘接剂的储存量比第一罐大的第二罐(30),在粘接剂涂敷工序中,使粘接剂在第一罐与涂敷机之间循环,并且在第一罐内的粘接剂的储存量成为给定值以下时,从第二罐向第一罐供给粘接剂。
搜索关键词: 光学 层叠 制造 方法 粘接剂涂敷 装置
【主权项】:
暂无信息
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