[发明专利]用于光刻过程性能确定的方法以及设备在审
| 申请号： | 202080061884.5 | 申请日： | 2020-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN114341741A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | R·沃克曼;林裴冷;布兰丁·玛丽·安德烈·里奇特·明格蒂;V·巴斯塔尼;M·哈伊赫曼达;L·M·韦尔甘-于泽;弗兰斯·雷尼尔·斯皮林 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于确定光刻图案化过程的性能的方法以及设备，该设备或方法被配置为或包括：接收衬底的一部分的图像，该衬底的该部分包括第一区以及第二区，第一区包括与在第一时间对衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征，并且第二区包括与在第二时间对衬底进行的第二光刻曝光相关联的第二特征，其中，第一区和第二区不重叠，并且其中，第一特征和第二特征形成沿着第一区的至少一部分以及第二区的至少一部分延伸的单个特征；以及基于与第一区和第二区之间的边界相关联的已曝光的第一特征和/或已曝光的第二特征的特征特性确定光刻图案化过程的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 过程 性能 确定 方法 以及 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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