[发明专利]用于光刻过程性能确定的方法以及设备

权利要求书

1.一种用于确定光刻图案化过程的性能的设备，所述设备包括一个或更多个处理器，所述一个或更多个处理器被配置为：

接收衬底的一部分的图像，所述衬底的所述部分包括：

第一区，所述第一区包括与在第一时间对所述衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征；和

第二区，所述第二区包括与在第二时间对所述衬底进行的第二光刻曝光相关联的第二特征，其中，所述第一区与所述第二区不重叠，并且其中，所述第一特征以及所述第二特征形成沿着所述第一区的至少一部分以及所述第二区的至少一部分延伸的单个特征；以及

基于与所述第一区和所述第二区之间的边界相关联的已曝光的第一特征和/或已曝光的第二特征的一个或更多个特征特性，确定所述光刻图案化过程的性能。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述边界包括所述第一区的外部边缘的一部分以及所述第二区的外部边缘的一部分。

3.如权利要求1所述的设备，其中，所述第一特征以及所述第二特征包括产品特征以及伪特征中的至少一个，所述伪特征具有与所述产品特征相同的一个或更多个尺寸。

4.如权利要求1所述的设备，其中，所述一个或更多个特征特性包括距离指标，所述距离指标包括：

所述第一特征的一个或更多个对称轴与所述第二特征的一个或更多个对称轴之间的距离；和/或

所述第一特征与所述第二特征之间的物理距离。

5.如权利要求1所述的设备，其中，确定所述性能包括：分析所述图像以确定与所述第一区和所述第二区之间的边界相关联的所述第一特征和/或所述第二特征的一个或更多个特征特性。

6.如权利要求5所述的设备，其中，确定所述性能包括：执行所述图像的所述第一特征和/或所述第二特征与所述第一特征和/或所述第二特征的标准的比较。

7.如权利要求5所述的设备，其中，确定所述性能还包括：基于所确定的一个或更多个特征特性，确定一个或更多个光刻图案化过程特性的性能。

8.如权利要求7所述的设备，其中，所述一个或更多个特征特性包括所述第一特征和/或所述第二特征的空间尺寸。

9.如权利要求7所述的设备，其中，所述一个或更多个过程特性包括与对所述第一区和/或所述第二区的图案化相关联的放大率、平移和/或更高阶变形误差中的一个或更多个。

10.如权利要求7所述的设备，其中，至少部分地使用将所述一个或更多个特征特性中的至少一个特征特性作为输入的模型来确定所述一个或更多个过程特性的性能。

11.如权利要求10所述的设备，其中，所述模型包括神经网络。

12.如权利要求11所述的设备，其中，所述模型被配置为根据所述衬底的包括第一特征以及第二特征的部分的图像的训练集合被训练，其中，所述训练集合的所述图像的所述第一特征和/或所述第二特征具有与所述光刻图案化过程的已知性能相关联的一个或更多个已知的特征特性。

13.如权利要求1所述的设备，其中，确定所述光刻图案化过程的性能还包括：

确定通过从所述图像移除噪声而获得的预处理图像；以及

根据所述预处理图像识别所述一个或更多个特征特性。

14.如权利要求13所述的设备，其中，确定所述预处理图像包括：

检测所述图像中的一个或更多个线特征；以及

旋转所述图像，使得所述一个或更多个线特征中的至少一个线特征平行于或垂直于所述第一区和所述第二区之间的边界。