[发明专利]装置和设备在审

专利信息
申请号: 202080060505.0 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN114302782A 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 卡斯顿·纽曼;阿恩·尼夫;巴斯蒂安·兰伯特;丹尼尔·布吕克 申请(专利权)人: SLM方案集团股份公司
主分类号: B22F12/00 分类号: B22F12/00;B22F10/28;B22F12/41;B22F12/90;B22F12/44;B22F12/49;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 孟媛;李维凤
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明描述了对用于制造三维工件的设备的照射系统进行校准的装置,该照射系统包括用于将照射射束选择性地照射到照射平面上的照射单元,其中,该装置包括:控制单元,该控制单元被配置成对照射系统进行控制,以将照射射束照射到照射平面上;以及联接到控制单元的光学检测单元,其中,光学检测单元包括光学检测器和物镜,以对照射平面的一部分进行光学检测,其中,光学检测单元被配置成对照射射束在照射平面上的光斑的位置进行检测,其中,物镜适于相对于照射射束的照射射束路径被布置在光学检测器和照射系统的照射射束扫描器之间,其中,光学检测单元被配置成根据光学检测单元的可调节的焦距在多个焦平面中对照射射束的光斑的位置进行检测,其中,所述光学检测单元被配置成:响应于所述光学检测单元检测到所述照射射束在所述照射平面上的光斑的位置,向所述控制单元输出信号,并且其中,控制单元被配置成根据从光学检测单元输出到控制单元的信号对照射系统进行控制。
搜索关键词: 装置 设备
【主权项】:
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