[发明专利]装置和设备

权利要求书

1.对用于制造三维工件的设备的照射系统进行校准的装置，所述照射系统包括用于将照射射束选择性地照射到照射平面上的照射单元，其中，所述装置包括：

控制单元，所述控制单元被配置成对所述照射系统进行控制，以将所述照射射束照射到所述照射平面上，以及

联接到所述控制单元的光学检测单元，其中，所述光学检测单元包括光学检测器和物镜，以对所述照射平面的一部分进行光学检测，其中，所述光学检测单元被配置成对所述照射射束在所述照射平面上的光斑进行检测，其中，所述物镜适于相对于所述照射射束的照射射束路径被布置在所述光学检测器和偏转器单元之间，所述偏转器单元用于对所述检测单元的、穿过所述照射平面的至少一部分的视场进行偏转，其中，所述光学检测单元能够根据所述光学检测单元的可调节的焦距、在多个焦平面中对所述照射射束的光斑进行检测，

其中，所述光学检测单元被配置成：响应于所述光学检测单元检测到所述照射射束在所述照射平面上的光斑，向所述控制单元输出信号，并且

其中，所述控制单元被配置成根据从所述光学检测单元输出到所述控制单元的信号对所述照射系统进行控制。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述光学检测单元被配置成根据以下各项中的一项或多项来对所述照射射束在所述照射平面上的光斑进行检测：

从所述照射平面被散射的照射射束，

从所述照射平面被反射的照射射束，

由冲击到所述照射平面上的照射射束导致的热致热辐射，以及

发射的过程光，所述发射的过程光特别地来自由冲击到所述照射平面上的所述照射射束导致的熔融池。

3.根据权利要求1或2所述的装置，所述装置进一步包括用于对所述光学检测单元的焦距进行调节的焦距调节单元。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述物镜的焦点是可调节的。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述装置进一步包括具有可调节的焦距的第二透镜。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置进一步包括图像处理单元，所述图像处理单元被配置成将所述照射平面的部分的由所述光学检测单元拍摄的多个图像拼接在一起，以获得所述照射平面的整个表面的图像。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置，所述装置进一步包括所述照射系统，其中，所述光学检测单元被布置成相对于所述照射射束偏离轴线。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述检测单元包括用于将所述照射射束扫描在所述照射平面上的照射射束扫描器。

9.使用增材制造技术制造三维工件的设备，所述设备包括：

照射单元，所述照射单元包括至少一个照射射束扫描器，其中，所述照射单元被配置成将至少一个照射射束选择性地照射到照射平面上，以及

光学检测单元，所述光学检测单元被配置成对所述至少一个照射射束在所述照射平面上的光斑进行光学检测，

其中，所述光学检测单元包括：

光学检测器，所述光学检测器特别是相机，以及

焦距调节器，所述焦距调节器特别是物镜，所述焦距调节器用于调节所述光学检测单元的焦距，其中，所述焦距调节器相对于所述至少一个照射射束中的一个照射射束的照射射束路径被布置在所述光学检测器和所述至少一个照射射束扫描器中的一个照射射束扫描器之间，并且

其中，所述光学检测单元能够根据所述光学检测单元的可调节的焦距在多个焦平面中对所述至少一个照射射束的光斑进行检测。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述光学检测单元被布置成相对于从所述照射单元到所述照射平面的所述至少一个照射射束的照射射束路径偏离轴线，以对来自从所述照射平面散射的所述至少一个照射射束的光进行检测。