[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物、树脂在审
| 申请号: | 202080060142.0 | 申请日: | 2020-07-29 |
| 公开(公告)号: | CN114375421A | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
| 发明(设计)人: | 高田晓;后藤研由;小岛雅史;牛山爱菜;白川三千纮;加藤启太;冈宏哲;藤田光宏;白石康晴 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 薛海蛟 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且,提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X,所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物:其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团,通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。 | ||
| 搜索关键词: | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 化合物 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080060142.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于磁悬浮系统的磁致动器
- 下一篇:视频或图像编译方法及其设备





