[发明专利]变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202080060100.7 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN114375413A | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 村谷真美 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/14 | 分类号： | G02B15/14;G02B15/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种变倍光学系统，由沿着光轴从物体侧依次排列的前方透镜组以及后续透镜组构成，后续透镜组包含具有正的光焦度的第1对焦透镜组以及配置于第1对焦透镜组的像面侧且具有负的光焦度的第2对焦透镜组。在进行变倍时，相邻的各透镜组之间的间隔变化，在从无限远物体向近距离物体进行对焦时，前方透镜组的位置被固定，第1对焦透镜组和第2对焦透镜组分别以不同的轨迹向像面侧移动，且满足以下条件式：0.05(‑fF2)/ft0.50，其中，fF2：第2对焦透镜组的焦距，ft：远焦端状态下的变倍光学系统的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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