[发明专利]光学成像性能测试系统和方法在审
| 申请号： | 202080055029.3 | 申请日： | 2020-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN114174791A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 威廉·K·里奇韦;艾伦·戴克;陈朋源;瑞贝卡·库尔扎瓦迪里科 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G02B27/62 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 桑敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 为了测试光学系统的成像性能，测试目标位于光学系统的物平面，并被照射以产生像束。从像束中获取测试目标的一个或多个图像。根据获取的成像数据，计算测试目标内多个位置处的边缘扩展函数。从边缘扩展函数构建点扩展函数的模型。基于点扩展函数，计算对应于多个位置的多个成像性能值。成像性能值基于包围矩形能量、包围圆能量或斯特列尔比。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 性能 测试 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司，未经安捷伦科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080055029.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
