[发明专利]增强基于RF的注入机的能量及射束电流的方法在审
| 申请号： | 202080052962.5 | 申请日： | 2020-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN114223048A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 佐藤秀 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/147;H01J37/05 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 张琳;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸塞州*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种离子注入系统的方法和系统，其配置用于在不改变离子源处的电荷状态的情况下将射束电流增大至高于来自离子源的第一电荷状态的最大动能。从离子源提供具有第一电荷状态的离子，这些离子被选入第一RF加速器并被加速至第一能量。对离子进行剥离以将其转化为具有各种电荷状态的离子。电荷选择器接收该各种电荷状态的离子并选择在第一能量下的最终电荷状态。第二RF加速器将离子加速至最终能谱。最终能量过滤器过滤离子以将处于最终能量和最终电荷状态的离子提供给工件。 | ||
| 搜索关键词： | 增强 基于 rf 注入 能量 电流 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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