[发明专利]发光装置的盖构件及盖构件的制造方法在审
| 申请号： | 202080023523.1 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN113812008A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 村上达也;辻原利治 | 申请（专利权）人： | 株式会社大真空 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;C23C14/18;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 刘伟志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 发光装置(10)在陶瓷封装体(11)的空室(111)中容纳有LED芯片(13)，空室(111)的开口被水晶盖(12)密封。密封前的盖构件(20)是通过将水晶盖(12)作为盖主体、并在水晶盖(12)的密封面上形成有作为基膜的第一金属化膜(41)而构成的。第一金属化膜(41)包括在水晶盖(12)上直接形成的第一金属层(411)、及在第一金属层(411)上形成的第二金属层(412)。第一金属层(411)具有由膜厚为20～700nm的钛膜构成的单层结构。第二金属层(412)具有从靠近第一金属层(411)的一侧起依次将镍－钛膜(4121)及金膜(4122)层叠的层叠结构。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 构件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社大真空，未经株式会社大真空许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080023523.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抗原结合蛋白
- 下一篇：与不同真菌病原体相关的感染和疾病的治疗和检测
