[发明专利]辐射测量系统在审
| 申请号： | 202080016473.4 | 申请日： | 2020-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN113474731A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | H·P·戈德弗里德;W·P·E·M·奥普特鲁特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种辐射测量系统(200)包括被配置为接收辐射束(210)并且改变辐射束的强度分布以输出经调节的辐射束(215)的光学设备(205)、以及可操作以接收经调节的辐射束并且确定经调节的辐射束的光谱含量的光谱仪(220)。辐射测量系统可以形成光刻设备的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 测量 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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