[发明专利]保护膜形成用片及基板装置的制造方法有效
| 申请号： | 202080012109.0 | 申请日： | 2020-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113396057B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 森下友尭 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/16 | 分类号： | B32B27/16;H01L23/29;H01L23/31;C09J133/14;C09J201/00;H01L21/304;H01L21/301;C09J7/29;C09J7/38;B32B7/022;B32B7/06 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种保护膜形成用片，其为依次具有基材、在基材上的能量射线固化性的粘着剂层及固化性的保护膜形成层的保护膜形成用片，保护膜形成层为通过贴附在具有凸状电极的工件的凸状电极形成面上并进行固化，从而在凸状电极形成面上形成保护膜的层，固化前的保护膜形成层的23℃时的剪切储能模量为3000MPa以下，能量射线照射后的粘着剂层的23℃时的拉伸储能模量为45MPa以下。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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