[发明专利]二苯并吡咯甲川硼螯合物、近红外光吸收材料、有机薄膜及有机电子装置在审
申请号: | 202080007651.7 | 申请日: | 2020-01-31 |
公开(公告)号: | CN113286799A | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 井内俊文;桥本雄太;贞光雄一;青竹达也 | 申请(专利权)人: | 日本化药株式会社 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;H01L31/10;H01L51/50 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 日本东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供一种在近红外光区域具有广泛吸收且在近红外光区域的光电转换效率优良的有机化合物、含有该化合物的近红外光吸收材料、包含该近红外光吸收材料的有机薄膜及包含该有机薄膜的有机电子装置以及有机光电转换元件。本说明书中,提供下式(1)所示的化合物: |
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搜索关键词: | 吡咯 甲川硼螯合物 红外 光吸收 材料 有机 薄膜 电子 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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