[实用新型]一种尺寸消耗小且均匀的微小腔体电化学抛光装置有效
| 申请号： | 202023181401.1 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN214458424U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;董笑瑜;梁田;滕达;李立凯;吴亚琴 | 申请（专利权）人： | 南京三乐集团有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 陆志斌 |
| 地址： | 210009 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种尺寸消耗小且均匀的微小腔体电化学抛光装置，包括电解槽，电解槽内部设置有电解液，电解液内部设置有定位模具，定位模具内部设置有方槽，方槽中部垂直设置有方形通孔，方槽内部设置有工具阴极，工具阴极前侧设置有微小腔体，定位模具一侧设置有电极孔，电极孔内部设置有电极，定位模具内部贯穿设置有螺孔；该一种尺寸消耗小且均匀的微小腔体电化学抛光装置通过设置工具阴极，可以达到实现对阴阳两极之间间距进行调节，从而确保抛光尺寸精度；通过设置搅拌泵，可以达到使被抛光工件表面成膜均匀；通过设置采用脉冲电源，可以达到提升抛光效果，减少微小腔体的尺寸消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 消耗 均匀 微小 电化学 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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