[实用新型]等离子蚀刻设备有效
| 申请号： | 202023151208.3 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN213781984U | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 申度旭 | 申请（专利权）人： | 乐金显示光电科技（中国）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种等离子蚀刻设备，包括供气装置和等离子发生装置，供气装置包括气体混合室和至少两个输气支管道，至少两个输气支管道与气体混合室连通，气体混合室通过输气总管道与等离子发生装置连通，输气支管道上设置有气体流量控制器和第一过滤器，第一过滤器用于对对应的输气支管道内的气体进行过滤处理，输气总管道上设置有第二过滤器，第二过滤器对输气总管道内的气体进行过滤处理。通过设置第一过滤器，利用第一过滤器对混合前的气体以及混合后的气体进行过滤处理，能够避免气体将气体流量控制器内因机械摩擦形成的固体异物带入气体混合室，进而保证供气装置向等离子发生装置输送的气体清洁度，具有提高蚀刻质量的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
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