[实用新型]一种垂直腔面发射激光器有效

专利信息
申请号: 202022856768.2 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN213636610U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 翁玮呈;丁维遵;刘嵩;梁栋 申请(专利权)人: 常州纵慧芯光半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/42
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 213000 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种垂直腔面发射激光器,涉及激光器技术领域,所述垂直腔面发射激光器包括:衬底;第一欧姆接触层,形成在所述衬底的第一表面上;第一反射层,形成在所述第一欧姆接触层背离所述衬底一侧的表面上,包括第一沟槽和多个第二沟槽,第一沟槽暴露至所述第一欧姆接触层,每个所述第二沟槽的底部厚度大于零。其中,刻蚀的第二沟槽无需暴露至第一欧姆接触层,仅需刻蚀部分第一反射层即可,从而在相同的发光面积下,减小了发光单元的电阻,提升了发光单元的光电转换效率,并且减小了发光单元之间的间距,提升了单位面积中的发光面积。
搜索关键词: 一种 垂直 发射 激光器
【主权项】:
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