[实用新型]一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备

摘要

本实用新型公开一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室，真空室中包括有膜导向机构，蒸发器及挡板驱动机构，于蒸发器上方为左右对向设置的旋转挡板，挡板驱动机构通过转轴驱动旋转挡板旋转，所述膜导向机构引导基材依次经过等离子发射器、蒸发器，旋转挡板内部中空，旋转挡板中空部分设置有若干纵横交错呈网格状的加强筋，还包括分别位于横向布置的加强筋上下方的水管，所述旋转挡板端部具有台阶位，两左右对向设置的旋转挡板的台阶位能够相互契合衔接。本实用新型在镀铝前采用等离子处理，提高膜表面张力，结合双面结构化的旋转挡板，在保证产品质量的同时，提高设备的稳定性。