[实用新型]一种耐辐照箱体及耐辐照设备有效
| 申请号： | 202022602922.3 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN213844772U | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 黄玉洁 | 申请（专利权）人： | 奇点新源国际技术开发（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G21F3/00 | 分类号： | G21F3/00 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 100081 北京市大兴区北京经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及核磁技术领域，提供一种耐辐照箱体及耐辐照设备，耐辐照设备包括耐辐照箱体，以及设置在设备容腔中的PCB功能板，耐辐照箱体包括主箱体以及封堵主箱体开口的箱盖，主箱体内设置有设备容腔，箱盖内侧设置有顶部屏蔽体，顶部屏蔽体朝向设备容腔一侧的面积大于设备容腔的开口面积；设备容腔用于放置PCB功能板，底部设置有底部屏蔽体，设备容腔外侧设置有环形槽，环形槽中设置有周向屏蔽体。在实际应用过程中，通过将PCB功能板设置在设备容腔中，且在设备容腔的顶部设置顶部屏蔽体，设备容腔底部设置底部屏蔽体，以及在设备容腔的周向设置周向屏蔽体，以保证PCB功能板完全被屏蔽材料包围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐照 箱体 设备 | ||
【主权项】：
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