[实用新型]一种具有清洗功能的纳米压印匀胶装置

摘要

本实用新型提出一种具有清洗功能的纳米压印匀胶装置。包括底座、壳体、盖板、真空吸盘和清洗装置；壳体固定安装在底座上，壳体上安装盖板，底座顶面有排污孔，排污孔与废液出口连接，相邻边角的排污孔之间通过导流槽连通；增压泵置于底座内部，喷洗头模组固定安装在底座顶面，储液容器置于底座外部，储液容器通过软管与增压泵的输入端连接；传动轴置于喷洗头模组中，传动轴安装固接真空吸附盘，真空吸附盘与电机的输出轴连接。本实用新型解决了匀胶的胶体沉积在壳体内的问题，避免了沉积的胶体本身带有或者是产生刺激性的气体对人体的伤害，同时也避免了沉积的胶体挥发对正在旋涂的基片表面胶层的影响。