[实用新型]一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构

摘要

本实用新型公开了一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体，所述槽体内侧设有多个滑槽，所述滑槽底部设有伸缩杆，所述伸缩杆上套接有弹簧，所述伸缩杆及弹簧底部固接滑槽底部，顶部固接有滚轴，所述滑槽顶部设有螺丝，所述螺丝穿过槽体进入滑槽内，且底部接触滚轴，所述滚轴两端固定有两个固定杆，所述滚轴位于固定杆内侧滚动连接有主辊轮，所述固定杆另一端滚动连接有副辊轮。本实用新型工作过程中当硅片向前移动时，硅片尾部会离开主辊轮2，从而接触到副辊轮，在副辊轮的帮助下，避免了尾部接触到蚀刻液内，避免了尾部过刻的现象；使用过程中可以根据液面高度通过螺丝对主辊轮、副辊轮位置进行调整，方便调整辊轮到合适的位置。