[实用新型]一种双光烫画结构有效
| 申请号： | 202021657962.1 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN212889656U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 何鸿佳 | 申请（专利权）人： | 嘉禧国际有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B44F1/06 |
| 代理公司： | 广东普罗米修律师事务所 44615 | 代理人： | 黄利平 |
| 地址： | 中国香港九龙新蒲岗大有*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及反光膜技术领域，尤其涉及一种能够同时呈现平光效果和反光效果的双光烫画，双光烫画包括：基材料层；阻隔层，涂布于基材料层的上表面，用于遮盖基材料层，以使双光烫画结构呈现多层次的表面亮度；颜色层，设置于阻隔层的上表面；胶水层，设置于颜色层的上表面。本实用新型技术方案的有益效果：在反光膜的表面设置阻隔层，以使阻隔层遮蔽的部分呈现平光效果，从而使得烫画能够在光线的照射下同时呈现平光效果和反光效果；此外，双光烫画采用柔性材料制成，可以柔顺地贴附于布料上，不易因折叠而发生断裂，提升双光烫画的耐水洗性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双光烫画 结构 | ||
【主权项】：
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