[实用新型]一种清洗设备有效
| 申请号： | 202021301346.2 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN213134130U | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 李卫国;陆前军;王子荣 | 申请（专利权）人： | 广东中图半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种清洗设备，属于半导体晶片清洗技术领域。本实用新型所提供的清洗设备包括有机溶剂清洗机构、洗刷机构和中间转移机构，有机溶剂清洗机构包括第一旋转座和有机溶剂喷头组件，第一旋转座能够带动其上的待清洗晶片进行旋转，有机溶剂喷头组件能够向待清洗晶片喷洒有机清洗溶剂，洗刷机构包括第二旋转座、冲洗喷头组件和刷头组件，第二旋转座能够带动其上的待清洗晶片进行旋转，刷头组件能够洗刷待清洗晶片，冲洗喷头组件向待清洗晶片喷洒清洗水，中间转移机构用于实现待清洗晶片在第一旋转座和第二旋转座之间的转移。该清洗设备能够自动完成对晶片的清洗，不仅能够节省人力和物力，提高清洗效率，且清洗效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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