[实用新型]磁激励单元及磁流体抛光装置

摘要

本实用新型提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，包括第一磁体和第二磁体，所述第二磁体围绕所述第一磁体设置，所述第一磁体与第二磁体的磁极方向一致。本实用新型的有益效果在于：提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，通过磁激励单元让磁流体沿竖直方向形成磁流体波峰，再通过驱动电机带动工件挂架旋转，从而让工件与磁流体波峰发生相对运动实现对工件的抛光，使工件能够均匀受到磁流体波峰的外力作用，能够快速获得50nm以下的表面精度抛光和1um以下表面粗糙度的打磨而不会有亚表面缺陷，且由于磁流体受磁力束缚，不会产生粉尘，整机能耗低，经济环保。