[实用新型]磁激励单元及磁流体抛光装置

说明书

本实用新型提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，包括第一磁体和第二磁体，所述第二磁体围绕所述第一磁体设置，所述第一磁体与第二磁体的磁极方向一致。本实用新型的有益效果在于：提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，通过磁激励单元让磁流体沿竖直方向形成磁流体波峰，再通过驱动电机带动工件挂架旋转，从而让工件与磁流体波峰发生相对运动实现对工件的抛光，使工件能够均匀受到磁流体波峰的外力作用，能够快速获得50nm以下的表面精度抛光和1um以下表面粗糙度的打磨而不会有亚表面缺陷，且由于磁流体受磁力束缚，不会产生粉尘，整机能耗低，经济环保。

技术领域

本实用新型涉及抛光装置技术领域，尤其是指一种磁激励单元及磁流体抛光装置。

背景技术

随着社会的进步，人们常常需要对零件或产品进行抛光处理，现有的抛光技术主要分为物理抛光、化学抛光、电学抛光等。但是现有的抛光技术常常伴随着污染、粉尘、噪音等对环境不利的影响，而且在抛光的精度上也难以满足人们越来越高的需求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术的不足，提供一种磁激励单元及磁流体抛光装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种磁激励单元，包括第一磁体和第二磁体，所述第二磁体围绕所述第一磁体设置，所述第一磁体与第二磁体的磁极方向一致。

进一步的，还包括磁性材料，所述磁性材料设置于所述第一磁体和第二磁体的底端。

进一步的，所述第一磁体为磁体、永磁体或电磁体。

进一步的，所述第一磁体的高度大于或等于第二磁体的高度。

进一步的，所述第一磁体为电磁体，所述电磁体包括基材，所述基材设有凹槽，所述凹槽中设有绕线柱，所述绕线柱绕接有线圈。

本实用新型还涉及一种磁流体抛光装置，包括磁激励模组、磁流体容器和工件挂架，所述磁激励模组包括磁激励区，所述磁激励区中设有至少两个磁激励单元固定座，每个磁激励单元固定座均设有如上述任意一项所述的磁激励单元，所述磁激励模组设置于所述磁流体容器的一侧，所述磁流体容器盛装有磁流体，所述磁激励模组用于让所述磁流体沿竖直方向形成磁流体波峰，所述工件挂架设置于所述磁流体容器的上方，所述工件挂架连接有驱动电机，通过驱动电机带动所述工件挂架旋转，可让工件挂架上的工件与所述磁流体容器中的磁流体波峰发生相对运动实现对工件的抛光。

进一步的，所述磁激励区的形状为圆形、椭圆形、方形、菱形、蜂窝形、规则多边形或不规则多边形中的一种或几种。

进一步的，所述磁激励模组连接有第一驱动装置，所述磁激励模组在所述第一驱动装置的驱动下可沿竖直方向上下移动。

进一步的，所述磁流体容器的另一侧还设有第二磁激励模组，所述第二磁激励模组靠近所述磁激励模组一端的磁极与所述磁激励模组靠近所述第二磁激励模组一端的磁极相反。

进一步的，所述第二磁激励模组远离所述磁流体容器的一侧设有磁屏蔽层，所述磁激励模组远离所述磁流体容器的一侧设有磁屏蔽层。

本实用新型的有益效果在于：提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，通过磁激励单元让磁流体沿竖直方向形成磁流体波峰，再通过驱动电机带动工件挂架旋转，从而让工件与磁流体波峰发生相对运动实现对工件的抛光，使工件能够均匀受到磁流体波峰的外力作用，能够快速获得50nm以下的表面精度抛光和1um以下表面粗糙度的打磨而不会有亚表面缺陷，且由于磁流体受磁力束缚，不会产生粉尘，整机能耗低，经济环保。

附图说明

下面结合附图详述本实用新型的具体结构：

图1为本实用新型的磁激励单元的结构示意图；

图2为本实用新型的电磁体的结构示意图；