[实用新型]一种背硅刻蚀型剪切波滤波器有效
| 申请号： | 202020921635.6 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN213125989U | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 李国强 | 申请（专利权）人： | 广州市艾佛光通科技有限公司 |
| 主分类号： | H03H9/02 | 分类号： | H03H9/02;H03H9/64 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 毕晓萌 |
| 地址： | 510000 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种背硅刻蚀型剪切波滤波器，该滤波器包括：硅衬底、压电材料层以及顶部电极，所述顶部电极采用石墨烯制成；所述压电材料层覆盖在所述硅衬底上，所述硅衬底设有多个凹槽以使所述压电材料层位于所述凹槽处的下表面能够与空气接触，所述顶部电极设置在所述压电材料层的上表面。该背硅刻蚀型剪切波滤波器采用石墨烯作为顶部电极，可以极大地减小滤波器的电学损耗以及插入损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 剪切 滤波器 | ||
【主权项】：
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