[实用新型]一种用于化学镀铜的设备有效
申请号: | 202020589510.8 | 申请日: | 2020-04-17 |
公开(公告)号: | CN212316244U | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 卢意鹏;许国军;许香林;刘高飞;吴运会 | 申请(专利权)人: | 深圳市溢诚电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;C23C18/16 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 黄志兴 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安区西乡街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及镀铜设备,具体公开了一种用于化学镀铜的设备,包括至少两个可拆卸连接的化学镀铜单元,单个所述化学镀铜单元包括槽体(1),所述槽体(1)上设有加热模块(2)、适于将所述槽体(1)内的液体形成流动液体的泵送模块(4)和空气净化单元(6),所述槽体(1)内设有能够上下移动的装载模块(3),所述装载模块(3)具有液体进入流出结构。本实用新型的用于化学镀铜的设备结构简单,操作安全可靠,工作效率较高。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 镀铜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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