[实用新型]一种高透明抗氧化浅网印刷膜生产用侧偏纠正装置有效

专利信息
申请号: 202020450265.2 申请日: 2020-04-01
公开(公告)号: CN212268994U 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 潘俊鹏;吴纯泉;潘雅静 申请(专利权)人: 华瑞达包装材料股份有限公司
主分类号: B65H23/02 分类号: B65H23/02;B65H20/02
代理公司: 瑞安市翔东知识产权代理事务所 33222 代理人: 林成隆
地址: 325200 浙江省温*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种高透明抗氧化浅网印刷膜生产用侧偏纠正装置,包括顶架,顶架的内腔顶部的中间位置处固定设置有滑行机构,滑行机构的底部左右两端均焊接有纠偏箱,两组纠偏箱的底部相互靠近的一端开设有纠偏槽,两组纠偏箱的内腔底部相互远离的一侧固定设置有纠偏机构,两组纠偏机构的底部固定安装有气缸,两组气缸的底部输出端贯穿纠偏槽并固定安装有纠偏盖。该高透明抗氧化浅网印刷膜生产用侧偏纠正装置通过激光位移传感器检测间距变化量过大并将信号传递给单片机控制纠偏机构和气缸启动在纠偏盖和传动辊的作用下夹持固定该浅网印刷膜向外侧移动直至该侧方位的激光位移传感器重新检测出原先间距数值,从而便于提高侧偏纠正的能力与效率。
搜索关键词: 一种 透明 氧化 印刷 生产 用侧偏 纠正 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华瑞达包装材料股份有限公司,未经华瑞达包装材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020450265.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top