[实用新型]一种消畸变的点阵投射装置有效
| 申请号： | 202020443152.X | 申请日： | 2020-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN211905877U | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 陈驰;李安;鲁亚东;黄若普 | 申请（专利权）人： | 深圳市安思疆科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G03B15/02 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 米志鹏 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开一种消畸变的点阵投射装置，包括阵列光源、准直透镜和衍射光学元件；所述阵列光源发出的第一光束经准直透镜出射为第二光束，所述第二光束经衍射光学元件复制为出射的第三光束；所述第二光束102的视场角α、第三光束103的视场角γ和衍射光学元件的视场角β存在约束关系：α0.4γ，0.9γβ1.0γ。本申请可以消除投射器所投射的点阵图案畸变，以便更好的应用在D‑TOF 3D成像装置中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 畸变 点阵 投射 装置 | ||
【主权项】：
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