[实用新型]一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置有效

专利信息
申请号: 202020324803.3 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN211872086U 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 宋文;孟凡辉;李哲;何奕德;陈芳浩 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军军医大学
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;C01B33/021
代理公司: 西安研创天下知识产权代理事务所(普通合伙) 61239 代理人: 白志杰
地址: 710032 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种化学试验辅助装置领域的用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,包括两个一字形环形单元,且每个所述一字形环形单元均为非闭合环形结构;两个所述一字形环形单元嵌套连接形成成十字形夹持装置,并且两个所述一字形环形单元中心结合处为镂空,形成用于置放搅拌子的空腔,其四周形成用于夹持钛片的夹持腔;并且所述两个一字形环形单元可拆开使用,每个所述一字形环形单元均可单独作为夹持装置使用。本实用新型的装置结构简单易于操作,在使用时,不仅可以将钛片稳固可靠的固定在水相,同时又避免对下方搅拌子,以及上方两相界面的扰动,为最终介孔硅薄膜的成功合成奠定基础。
搜索关键词: 一种 用于 两相 沉积 介孔硅 夹持 装置
【主权项】:
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