[发明专利]一种单层膜结构的高稳定性触摸屏制作方法在审

专利信息
申请号: 202011636476.6 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112698752A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 白云 申请(专利权)人: 深圳市中光电发展集团有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种单层膜结构的高稳定性触摸屏制作方法,包括以下步骤:选取基板、基板加工处理、金属网面制作、金属网面加工、电镀覆膜、单层膜加工、基板二次处理、粘接柔性电路板以及触摸屏组装,先选取合适基板并进行加工处理,然后在基板表面涂抹含碳溶液获得含碳层,将具有含碳层的基板进行镀铜处理获得金属网面,再通过电镀覆膜将ITO导电薄膜组装到基板表面,并对基板进行二次处理,利用氢氟酸混合液对其进行减薄处理,获得减薄后的基板,接着粘接柔性电路板并进行电测以及质检,最后与终端产品模组组装,利用含碳层镀铜制取金属网面,并配合单层ITO导电薄膜进行组装,利用CNC机床对基板进行多次加工,使制得的触摸屏具有更高的稳定性。
搜索关键词: 一种 单层 膜结构 稳定性 触摸屏 制作方法
【主权项】:
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