[发明专利]基于二维光学相控阵的抗干扰探测成像系统和方法有效
| 申请号： | 202011626821.8 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112817009B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 廖家莉;曹瑞;王子豪;孙艳玲 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G01S17/894 | 分类号： | G01S17/894;G01S7/48 |
| 代理公司： | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人： | 刘长春 |
| 地址： | 710000 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于二维光学相控阵的抗干扰探测成像系统和方法，激光器发射目标激光光束，目标激光光束照射到二维光学相控阵后产生扫描光场，扫描光场照射至目标经反射后再照射至面阵探测器得到第一光场信息，第一光场信息经上位机进行追踪算法处理后得到发射单元控制信号，上位机将发射单元控制信号发送给二维光学相控阵；发射单元控制信号为已追踪到信号，二维光学相控阵产生赝热光场，赝热光场照射至目标经反射后再照射至面阵探测器后得到第二光场信息，第二光场信息经上位机进行强度相关成像处理得到目标成像信息。二维光学相控阵产生扫描光场时，可快速灵活的追踪探测；二维光学相控阵产生赝热光场时，可解决相位干扰时成像困难的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 二维 光学 相控阵 抗干扰 探测 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学，未经西安电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011626821.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种化妆品制备乳化加工方法
- 下一篇：一种高分子精确添加装置
