[发明专利]光学防伪结构及其制作方法有效
| 申请号： | 202011620687.0 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112634743B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 郑梦洁;董君;丁宇峰;潘美妍 | 申请（专利权）人： | 季华实验室 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 北京开阳星知识产权代理有限公司 11710 | 代理人： | 罗程凯 |
| 地址： | 528200 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 光学防伪结构及其制作方法，涉及光学防伪结构技术领域，光学防伪结构，包括从下往上依次层叠的第一金属层、中间介质层、第二金属层、黏贴层，还设有若干个隔槽，隔槽上下贯穿中间介质层和第二金属层，且为闭环的环形槽，第一金属层与每个隔槽所围区域内的中间介质层、第二金属层共同构成一个显色单元，显色单元为FP腔显色单元，黏贴层可剥离，设置隔槽的结构，使得黏贴层被剥离时，第二金属层的各个显色单元以外的部分随黏贴层一同被剥离，以使各个显色单元在被光照时共同呈现第一防伪图像。其制作方法为依次制作第一金属层、中间介质层、第二金属层和黏贴层，在制作中间介质层后，先制作形成隔槽和偏振孔，再制作第二金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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