[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 202011620302.0 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686110A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 王嵩;朱薇菡;孙沉敏;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/03 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，其含有：阴离子型化合物、纳米氧化物研磨颗粒、氧化剂、有机羧酸、水和pH调节剂。本发明采用阴离子型小分子化合物，修饰具有正电性表面的磨料颗粒，使其转化为负电颗粒，从而确保其在有机酸环境下稳定分散。其所制备的抛光液对铝等材料具有良好的抛光性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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