[发明专利]基底、光学元件、电子设备和基底的制作方法在审
| 申请号： | 202011616831.3 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112612143A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 刘滨;孙理斌;汪杰;陈远 | 申请（专利权）人： | 宁波舜宇奥来技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G02B27/09;G02B1/10;G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘娜 |
| 地址： | 315455 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基底、光学元件、电子设备和基底的制作方法。基底包括：中心层，中心层的材料为PET；第一胶层，第一胶层与中心层的一侧表面连接；第二胶层，第二胶层与中心层远离第一胶层的一侧表面连接。本发明解决了现有技术中基底存在容易翘曲的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 光学 元件 电子设备 制作方法 | ||
【主权项】：
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