[发明专利]一种MoS2有效

专利信息
申请号: 202011574098.3 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN112687760B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 彭陈阳;刘富德;郑大伟;古元;熊汉琴 申请(专利权)人: 清远道动新材料科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01G9/20;H01L29/24;H01L31/032;H01L31/109
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 颜希文
地址: 511500 广东省清远市清*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种MoS2/MoSe2异质结薄膜的制备方法,涉及半导体薄膜制备技术和新能源开发的领域。所述制备方法,包括如下步骤:(1)反应前驱液的制备:在溶剂中加入还原性试剂,搅拌至溶解;溶解后,依次加入硫源、钼源、硒源,搅拌至溶解,混合均匀后,得到反应前驱液;(2)基片衬底的前期表面处理:将基片衬底进行切割,切割后进行超声清洗,再浸泡清洗,清洗完成后进行干燥处理;(3)溶剂热反应:将步骤(2)中经过前期表面处理的基片衬底,与步骤(1)中得到的反应前驱液接触,进行溶剂热反应,得到沉积有MoS2/MoSe2异质结薄膜的基片;(4)将步骤(3)中得到的沉积有MoS2/MoSe2异质结薄膜的基片,进行清洗、真空干燥,得到所述MoS2/MoSe2异质结薄膜。
搜索关键词: 一种 mos base sub
【主权项】:
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