[发明专利]深紫外正型光刻胶成膜树脂及其制备方法在审
| 申请号： | 202011567493.9 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112694555A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 孙奇伟;白钢;独文倩 | 申请（专利权）人： | 苏州禾川化学技术服务有限公司 |
| 主分类号： | C08F212/14 | 分类号： | C08F212/14;C08F222/40;G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 王玉仙 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种深紫外正型光刻胶成膜树脂及其制备方法。本发明以羟基苯乙烯与N‑取代马来酰亚胺类化合物共聚制得的共聚物，其分子链中含有大量的苯环和五元杂环结构，使聚合物具有优异的耐高温性能；同时侧链中存在大量的酚羟基，其可溶于碱性水溶性显影剂，为其作为光刻胶成膜树脂提供了可行性。 | ||
| 搜索关键词： | 深紫 外正型 光刻 胶成膜 树脂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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