[发明专利]深紫外正型光刻胶成膜树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种深紫外耐高温正型光刻胶成膜树脂，其特征在于，所述的深紫外耐高温正型光刻胶成膜树脂中包括如下结构通式的共聚物：

其中，R选自m为50～100之间的整数，n为80～150之间的整数。

2.一种权利要求1所述的深紫外耐高温正型光刻胶成膜树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将羟基苯乙烯和N-取代马来酰亚胺类化合物溶于有机溶剂中，通入保护气氛除氧，在引发剂作用下，65～90℃恒温反应10～30h，冷却至20～30℃，搅拌条件下加水，抽滤，洗涤、干燥得到所述的深紫外耐高温正型光刻胶成膜树脂。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的深紫外耐高温正型光刻胶成膜树脂制备过程中，原料按照如下重量份投料：羟基苯乙烯20-40份，N-取代马来酰亚胺类化合物25-50份，有机溶剂30-50份，引发剂0.1-0.5份。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的有机溶剂为丙酮、2-丁酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氢呋喃、甲苯、二甲苯、二甲亚砜、乙酸乙酯、乙酸丁酯、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯、过氧化甲乙酮中的至少一种。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的N-取代马来酰亚胺类化合物通过如下方法制备得到：马来酸酐与芳香胺或脂肪胺在有机溶剂中，经脱水剂和催化剂作用下，制得N-取代马来酰亚胺类化合物，其结构通式为：

其中，R选自

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述的催化剂包括醋酸镍、正丁醇锆、辛酸亚锡、异辛酸亚锡、二月桂酸二丁基锡、钛酸四丁酯或醋酸锌中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述的脱水剂包括甲酸酐、乙酸酐、苯酐、分子筛中的一种或多种。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述的N-取代马来酰亚胺类化合物制备过程中，原料按照如下重量份进行投料：马来酸酐20-40份，芳香胺或脂肪胺20-40份，有机溶剂40-60份，脱水剂2-5份，催化剂0.5-2.5份。

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的保护气氛为氮气或惰性气体。