[发明专利]黑色矩阵的制备方法及显示基板在审
| 申请号： | 202011547069.8 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112698555A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 黄晓雯;龚文亮 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 刘泳麟 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种黑色矩阵的制备方法及显示基板，所述方法包括：在一阵列基板上设置对位标记；在所述对位标记背向所述阵列基板的表面或上方形成疏水区域，使得所述对位标记背向所述阵列基板的表面或上方疏水；在所述阵列基板表面涂布光阻；依次对所述光阻进行曝光、显影和烘烤，得到黑色矩阵，所述黑色矩阵的图形所在的区域与所述对位标记的图形所在的区域无重合区。本发明实施例能有效提高阵列基板中黑色矩阵的图形与前序工艺形成的图形的对位精度。 | ||
| 搜索关键词： | 黑色 矩阵 制备 方法 显示 | ||
【主权项】：
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