[发明专利]一种激光熔覆原位合成钼-硅-硼合金涂层的方法有效
| 申请号： | 202011536356.9 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN112760636B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 李尧;杨浩;刘源;张勇;张凤英 | 申请（专利权）人： | 长安大学 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C22C27/04 |
| 代理公司： | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人： | 马小燕 |
| 地址： | 710064 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光熔覆原位合成钼‑硅‑硼合金涂层的方法，该方法包括：一、将钼板进行表面预处理作为基材；二、将球形钼粉末与硅粉、碳化硼粉末机械混合得到混合粉末；三、在钼板基材上对混合粉末进行激光熔覆，原位合成得到钼‑硅‑硼合金涂层。本发明采用碳化硼粉末作为硼原料，避免了激光熔覆的高温条件下，硼原料挥发损耗使得激光熔覆合成的钼‑硅‑硼合金涂层的成分与设计成分产生较大的偏差，降低了钼‑硅‑硼合金涂层的开裂倾向，得到的钼‑硅‑硼合金涂层成分组织均匀，无裂纹缺陷，与基材结合性好、厚度可控，且具有高强度、高硬度和抗高温氧化性能，对钼基材料具有优异的氧化防护性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 原位 合成 合金 涂层 方法 | ||
【主权项】：
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