[发明专利]一种用于大长径比管内壁镀膜的磁控溅射装置有效

专利信息
申请号: 202011506907.7 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112680706B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 章嵩;涂溶;王传彬;沈强;张联盟;李志荣;李迎春 申请(专利权)人: 武汉理工大学;广东汇成真空科技股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/04
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明;官群
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种用于大长径比管内壁镀膜的磁控溅射装置,包括:为大长径比管加热的加热系统;与大长径比管一端连接的真空端转接头和抽真空系统;与大长径比管另一端连接的电源端转接头和高功率脉冲电源;贯穿真空端转接头、大长径比管及电源端转接头并位于其中心轴线上的空心管,所述空心管上均匀排布有细孔;套设在空心管上并可延空心管移动的单个或多个环形靶系统;与环形靶系统连接的冷却水系统。本发明采用环形靶材沿中心轴在管件内来回移动实现对不同长度管件的内壁均匀镀膜,并且靶材可选用金属材料和非金属材料,通过采用几个靶系统的协同镀膜,可以实现多个靶材镀多层膜,解决了现有的管件内壁镀膜技术仅能实现单一成分镀膜的问题。
搜索关键词: 一种 用于 长径 内壁 镀膜 磁控溅射 装置
【主权项】:
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