[发明专利]一种CVD金刚石层-孕镶金刚石层-聚晶金刚石复合片层的阶梯型复合片有效

专利信息
申请号: 202011497705.0 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112610160B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 简小刚;胡吉博;杨天;彭薪颖 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: E21B10/46 分类号: E21B10/46
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 刘燕武
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种CVD金刚石层‑孕镶金刚石层‑聚晶金刚石复合片层的阶梯型复合片,由聚晶金刚石复合片层、孕镶金刚石层和CVD金刚石层组成,其中,所述孕镶金刚石层包裹住所述聚晶金刚石复合片层,且沿钻进方向,所述孕镶金刚石层的前端表面具有露出聚晶金刚石复合片层的凹槽,所述的CVD金刚石层设置在孕镶金刚石层上,并确保在钻进工作时,CVD金刚石层最先接触岩层。与现有技术相比,本发明结合CVD金刚石层+孕镶金刚石层+聚晶金刚石复合片层三者优势,既可以快速破岩提高工作效率,又提高复合片整体的使用寿命。对未来用于石油钻探、地质钻探及煤田开采等领域,具有很高的社会价值。
搜索关键词: 一种 cvd 金刚石 镶金 刚石 复合 阶梯
【主权项】:
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