[发明专利]一种用于等离子清洗机或蚀刻机的真空清洗结构及清洗工艺在审
| 申请号： | 202011481840.6 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112490101A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 邹军 | 申请（专利权）人： | 深圳市普拉斯玛自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/305;H01J37/32;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区松岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于等离子清洗机或蚀刻机的真空清洗结构，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有可转动的公转盘，所述公转盘上设置有若干可转动的工件座。等离子清洗机的清洗工艺，应用于真空腔体内，在真空腔体内清洗过程中，同时转动用于放置有料盒的公转盘和用于放置工件的料盒。上述等离子清洗机的真空清洗结构及清洗工艺，通过设置转动的公转盘和在公转盘上转动的工件座，可以使电极盒上的工件均匀转动，清洗或蚀刻更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 等离子 清洗 蚀刻 真空 结构 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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