[发明专利]一种具有Mo-Si-Ti合金层的γ-TiAl材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有Mo‑Si‑Ti合金层的γ‑TiAl材料及其制备方法。本发明所述的材料包括γ‑TiAl以及在γ‑TiAl表面制备的Mo‑Si‑Ti合金层，通过在γ‑TiAl表面依次进行第一次Si离子、电子束重熔处理、第二次Si离子注入以及双层辉光等离子方法制备Mo‑Si‑Ti合金层；所述Mo‑Si‑Ti合金层厚度为18‑25μm，所述Mo‑Si‑Ti合金层包括2‑4μm的Ti‑Al‑Si‑Mo扩散层以及16‑21μm的Mo‑Si‑Ti沉积层。本发明利用离子注入方法在γ‑TiAl表面注入Si离子并通过电子束处理方法对γ‑TiAl表面进行重熔处理，为Mo‑Si‑Ti合金层的制备提供充足的Si来源，满足双层辉光等离子合金化所制备的Mo‑Si‑Ti合金层对Si含量的需求，可以大幅度提高γ‑TiAl抗高温氧化性能，提高钼硅化物涂层在航空发动机中的应用。